Leader du marché en matière de production à faible chimie avec les plaques thermiques
La combinaison des technologies actuelles de plaques et de produits chimiques avec le logiciel ZAC développé par Fujifilm et intégré dans les principaux processeurs de l'entreprise permet d'obtenir des avantages remarquables : réduction de la consommation de produits chimiques, diminution des besoins de maintenance, réduction de la production de déchets, environnement de travail propre et meilleure stabilité des processus. Par conséquent, nos systèmes à faible teneur en produits chimiques apportent une contribution importante à l'amélioration de l'impact environnemental et de la productivité.
Réduction de la consommation de produits chimiques
Les processeurs de la série FLH-Z intègrent le logiciel unique développé par Fujifilm pour gérer intelligemment la quantité de régénérant nécessaire. Cette amélioration signifie qu'un bain de développement frais peut désormais traiter jusqu'à 15 000 m² de plaques, ce qui permet de réaliser des économies substantielles sur la consommation de révélateur. Pour une entreprise utilisant environ 10.000 plaques B1 sur une période d'un à trois mois, la consommation de produits chimiques peut être réduite à environ 294 litres, soit une réduction de plus de 80% (en fonction du système utilisé).
Réduction de la maintenance
En maintenant une activité parfaite du révélateur, il est possible de prolonger considérablement la durée d'utilisation du bain de développement au-delà des paramètres habituels. Il est possible de multiplier la durée de vie du révélateur par quatre - ou plus - par rapport aux autres systèmes du marché. Ces améliorations signifient qu'il est désormais possible de développer jusqu'à 15 000 m² de plaques avec un seul volume de cuve, ce qui permet de réduire considérablement les temps de nettoyage. Il n'est pas rare, par exemple, que des imprimeries ayant un besoin annuel de 32.000 m² économisent plus de 40 heures de temps de nettoyage pendant cette période.
Un environnement de travail plus propre
La chimie utilisée pour le traitement des plaques dans un système ZAC ne contient pas de silicates. Cela permet une durée de vie du bain beaucoup plus longue sans augmentation des boues de développement et des blocages de filtres.
Un système plus stable
Grâce au contrôle intelligent de la régénération nécessaire, les processeurs ZAC peuvent fonctionner de manière plus stable. Il est ainsi beaucoup plus facile d'obtenir une qualité élevée indépendamment des changements des conditions environnementales. C'est particulièrement important pour les applications exigeantes utilisant des trames FM.
Comment fonctionne le système 'ZAC' ?
Contrairement aux processeurs de plaques traditionnels qui tentent simplement de maintenir la conductivité de la solution de développement à un niveau constant, les processeurs ZAC de Fujifilm disposent d'une technologie unique qui contrôle précisément la régénération en contrôlant la consommation et le niveau d'oxydation. Pour cela, des algorithmes logiciels basés sur des tests approfondis dans les laboratoires de Fujifilm sont utilisés. Cela permet d'éviter toute régénération inutile tout en assurant un traitement constant de chaque plaque pour une qualité et des performances optimales sur la presse.
